- Dotierungskonzentration
- fконцентрация легирующей примеси
Deutsch-Russische Wörterbuch polytechnischen. 2013.
Dotierungskonzentration
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Metall-Oxid-Halbleiter-Feldeffekttransistor — Der Metall Oxid Halbleiter Feldeffekttransistor (englisch metal oxide semiconductor field effect transistor, MOSFET auch MOS FET, selten MOST) gehört zu den Feldeffekttransistoren mit isoliertem Gate, auch als IGFET bezeichnet. Er ist den… … Deutsch Wikipedia
Dotieren — Eine Dotierung oder das Dotieren (v. lat. dotare „ausstatten“) bezeichnet in der Halbleitertechnik das Einbringen von Fremdatomen in eine Schicht oder ins Grundmaterial eines integrierten Schaltkreises. Die dabei eingebrachten Konzentration sind… … Deutsch Wikipedia
Dotierter Halbleiter — Eine Dotierung oder das Dotieren (v. lat. dotare „ausstatten“) bezeichnet in der Halbleitertechnik das Einbringen von Fremdatomen in eine Schicht oder ins Grundmaterial eines integrierten Schaltkreises. Die dabei eingebrachten Konzentration sind… … Deutsch Wikipedia
Dotierung — Eine Dotierung oder das Dotieren (von lat. dotare „ausstatten“) bezeichnet in der Halbleitertechnik das Einbringen von Fremdatomen in eine Schicht oder ins Grundmaterial eines integrierten Schaltkreises. Die dabei eingebrachte Menge ist dabei… … Deutsch Wikipedia
Elementhalbleiter — Ein Wafer (einkristalline Silizium Scheibe) mit mikroelektronischen Bauelementen Unter einem Halbleiter versteht man einen Festkörper, den man hinsichtlich seiner elektrischen Leitfähigkeit sowohl als Leiter als auch als Nichtleiter betrachten… … Deutsch Wikipedia
Halbleiter — sind Festkörper, die hinsichtlich ihrer elektrischen Leitfähigkeit sowohl als Leiter als auch als Nichtleiter betrachtet werden können. Halbleiter können verschiedene chemische Strukturen besitzen: Man unterscheidet zwischen Elementhalbleitern… … Deutsch Wikipedia
Halbleiterphysik — Ein Wafer (einkristalline Silizium Scheibe) mit mikroelektronischen Bauelementen Unter einem Halbleiter versteht man einen Festkörper, den man hinsichtlich seiner elektrischen Leitfähigkeit sowohl als Leiter als auch als Nichtleiter betrachten… … Deutsch Wikipedia
Ionenimplantation — Die Ionenimplantation ist ein Verfahren zur Einbringung von Fremdatomen (in Form von Ionen) in ein Grundmaterial (Dotierung). Auf diese Weise lassen sich die Materialeigenschaften (meistens die elektrischen Eigenschaften) des Grundmaterials… … Deutsch Wikipedia
N-Dotierung — Eine Dotierung oder das Dotieren (v. lat. dotare „ausstatten“) bezeichnet in der Halbleitertechnik das Einbringen von Fremdatomen in eine Schicht oder ins Grundmaterial eines integrierten Schaltkreises. Die dabei eingebrachten Konzentration sind… … Deutsch Wikipedia
N-dotiert — Eine Dotierung oder das Dotieren (v. lat. dotare „ausstatten“) bezeichnet in der Halbleitertechnik das Einbringen von Fremdatomen in eine Schicht oder ins Grundmaterial eines integrierten Schaltkreises. Die dabei eingebrachten Konzentration sind… … Deutsch Wikipedia
P-Dotierung — Eine Dotierung oder das Dotieren (v. lat. dotare „ausstatten“) bezeichnet in der Halbleitertechnik das Einbringen von Fremdatomen in eine Schicht oder ins Grundmaterial eines integrierten Schaltkreises. Die dabei eingebrachten Konzentration sind… … Deutsch Wikipedia
